曝光

曝光是指將涂有感光層的PS版置于曬版機工作臺上，放好底片，通過曝光 獲得一種潛在或可見圖像的過程。曝光是一切光化學成像方法的基本過程與主要特征。曝光，曝光模式即計算機采用自然光源的模式，通常分為多種，手動曝光、AE鎖等模式。照片的好壞與曝光有關，也就是說應該通多少的光線使CCD能夠得到清晰的圖像。曝光量由通光時間（快門速度決定），通光面積（光圈大小）決定。江蘇友迪光電成立于江蘇徐州豐縣經濟開發區，在蘇州建立研發中心，已有核心研發團隊30人，涵蓋光機電軟與運動系統。

線路板曝光機：用紫外線(UV)的能量，使干膜或印墨中的光敏物質進行光化學反應，以達到選擇性局部架橋硬化的效果，完成影像轉移的目的稱為曝光。將棕片(重氮片)上的圖曝光到涂了感光物或是貼了感光干膜的線路板硬板PCB或軟板FPC上。

曝光機理：通過UV光照射，使干膜感光劑中的非聚合狀態有機分子橋接成聚合體。

光源：散射光、準平行光、平行光、激光。

設備：手動對位曝光機，半自動對位曝光機，自動曝光機，LDI曝光機，DI曝光機。

江蘇友迪激光科技有限公司、江蘇鈞迪智能裝備科技均是江蘇迪盛智能科技有限公司旗下子公司，擁有的直接成像技術，歡迎大家來電咨詢?。。?/p>

DI直接成像曝光機

1、技術優勢：

所有MIVA 位圖影像系統使用的曝光程序，使用率半導體光源系統和高解析度的光學模組，此系統將高清晰度的影像轉移至感光基材，根據產品需求解析度可從3000DPI 到128000DPI，光學頭在板材上方連續移動曝光，高解析度的線性電機和光學尺可實現的位置控制。操作要求：（1）工作環境溫度應在0-40℃，相對濕度要小于80%。

2、耗電低：

待機時只需消耗350W，曝光時消耗2.5KW，這其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗，故機臺本身十分節能。機臺可使用單相電源。