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PVD鍍鈦通常稱謂：鍍鈦，鍍鈦廠，鍍膜,真空鍍鈦，鍍鉻，鍍鈦加工，PVD，表面處理，鈦板，表面處理加工,真空鍍膜加工，表面處理，PVD涂層，模具鍍鈦，納米涂層，真空電鍍，零件鍍鈦，精密模具鍍鈦，沖壓模具鍍鈦，壓鑄模具鍍鉻，耐磨涂層，真空鍍鈦，鍍鈦涂層，離子鍍鈦，真空涂層，沖棒鍍鈦，五金模具鍍鈦，塑膠模鍍鈦，納米鍍鈦,金屬表面處理等.

金屬表面處理PVD鍍鈦特點：增壽、增硬、增值,并以其硬高度、高耐磨、強抗腐蝕性、抗高溫、抗黏著性等優越的使用性能廣泛應用于模具工業中。

PVD（Physical Vapor Deition），在真空條件下，采用物理方法，使材料源表面氣化成原子、分子或離子，在基體表面沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。PVD主要分為蒸鍍、濺射和離子鍍三大類。

蒸發鍍膜

真空條件下，將鍍料加熱蒸發或升華，材料的原子或分子直接在襯底上成膜的技術。根據加熱方法的不同主要有以下幾種蒸發鍍膜技術。

采用電阻加熱蒸發源的蒸發鍍膜技術，一般用于蒸發低熔點材料，如鋁、金、銀、硫化鋅、氟化鎂、三氧化二鉻等；加熱電阻一般采用鎢、鉬、鉭等。

點可蒸發任何材料薄膜純度高直接作用于材料表面，熱

缺點電子槍結構復雜，造價高化合物沉積時易分解，化學比失調

3激光蒸發鍍膜

采用高能激光束對材料進行蒸發，用以形成薄膜的方法，一般稱為激光蒸鍍。

優點薄膜純度高蒸發速率高特別適合蒸發成分復雜的合金或化合物，膜層的化學計量比與靶材保持一致

缺點

易產生微小顆粒飛濺，影響薄膜質量

受到電場力的吸引，接下來氮的陽離子會向飛向陰極即靶材附近，而電子則會飛向引弧針，但是由于離子的質量遠遠大于電子，因此在受到相同電場力的情況下，電子的移動距離會大于陽離子的移動距離，于是當電子到達陽極時，離子將不會到達陰極靶面，而是在距離靶面較近的位置處富集，形成正離子堆積層，陽離子與陰極靶面的距離很小，可達微米級。根據E=U/d，可知此時空間中的電場強度極高，這種極強的電場會把靶材中的電子“扯”出來。離子鍍在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分電離，并在氣體離子或被蒸發物質離子的轟擊下，將蒸發物質或其反應物沉積在基片上的方法。